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테스

  • 095610
  • |코스닥
  • 개요
    테스 동사는 반도체 및 태양전지 제조에 필요한 장비를 생산하는 장비제조업을 영위하며 반도체 소자업체와 태양전지 제조업체가 주요 고객임

    동사는 2010년도부터 가스방식의 Dry Etcher장비인 HF Dry Etcher(Gas Phase Etcher)장비의 개발에 성공하며 건식기상식각 장비 시장에 진입하였음

    2012년도에는 HF Dry Etcher와 다른 공정을 하나의 장비에서 동시에 수행할 수 있는 복합장비(Hybrid System) 양산에 성공하며 반도체 기술 트렌드에 부합되는 장비 다변화에 성공하였음

    동사의 PECVD 장비시장에서는 주로 A, L사 등의 외국기업과 경쟁형태를 이루고 있지만 동사를 비롯하여 국내 PECVD업체들이 주요 고객인 삼성전자, SK하이닉스 내에서의 장비점유율이 점진적으로 상승하고 있음

    매출구성은 반도체 및 태양전지 장비 92.1%, 원부자재 등 7.9% 등으로 구성
  • 31,900
  • 500
  • -1.54%
  • 호가
  • 거래량 398,273(40%)|
  • 거래대금 12,858백만원
09.20장종료 마이페이지 등록
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    EPS/PER도움말
    1,752/18.21 (원/배)
    EPS/PER 용어 도움말 EPS = (지배주주)당기순이익 / 발행주식수 PER = 현재가 / 최근 연간 결산 EPS
  • 19,200
    BPS/PBR도움말
    7,635/4.18 (원/배)
    BPS/PBR 용어 도움말 BPS = (지배주주)자본 / 발행주식수 PBR = 현재가 / 최근 연간 결산 BPS
  • 업종
    반도체 -2.06%
    WICS
    반도체와반도.. -2.23%

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    (주)테스 기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)

    기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)
    1. 특허명칭 샤워헤드
    2. 특허 주요내용 상기 특허는 반도체 장비에 적용되는 기술임.

    본 특허에 의하면,

    샤워헤드 내부의 온도를 파우더가 형성되지 않을 온도 이상으로 가열할 수 있으며, 따라서 샤워헤드 내부에서 파우더가 발생하지 않는다.
    3. 특허권자 주식회사 테스
    4. 특허취득일자 2017-04-18
    5. 특허 활용계획 상기 특허와 관련된 기술을 반도체 장비에 적용하고 R&D활동에도 응용하여 제품경쟁력 강화에 활용할 계획임.
    6. 확인일자 2017-04-18
    7. 기타 투자판단에 참고할 사항 - 상기 특허취득일자 및 확인일자는 특허 수수료 납부일자 기준임.
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